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J-GLOBAL ID：200903045264977494
筆跡照合装置における基準パターン登録方法および装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
牛久 健司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993217967
Publication number (International publication number)：1995057093
Application date： Aug. 11, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：
【要約】【目的】 入力された被検査筆跡パターンを,あらかじめ登録されている基準筆跡パターンと照合する筆跡照合装置において,比較照合時の他人識別率を低下させる原因を解消することにより,より正確な比較結果を得ることができる信頼度の高い基準筆跡パターンを作成する。【構成】 登録用筆跡パターンの入力を複数回にわたって受付け,受付けた複数の登録用筆跡パターン間のばらつきが所定許容範囲内にあるかどうかを検査し,上記ばらつきが所定許容範囲内にある場合には,入力された複数の登録用筆跡パターンに基づいて基準筆跡パターンを作成して登録し,上記ばらつきが所定許容範囲外にある場合には,登録用筆跡パターンの再入力を要求する。
Claim (excerpt)：
入力された被検査筆跡パターンを,あらかじめ登録されている基準筆跡パターンと照合する筆跡照合装置において,登録用筆跡パターンの入力を複数回にわたって受付け,受付けた複数の登録用筆跡パターン間のばらつきが所定許容範囲内にあるかどうかを検査し,上記ばらつきが所定許容範囲内にある場合には,入力された複数の登録用筆跡パターンに基づいて基準筆跡パターンを作成して登録し,上記ばらつきが所定許容範囲外にある場合には,登録用筆跡パターンの再入力を要求する,筆跡照合装置における基準パターン登録方法。
FI (2)：
G06F 15/62 465 P
, G06F 15/70 455 A
