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J-GLOBAL ID：200903045269780230
透かし刺繍模様の形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
稲葉 昭治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998060675
Publication number (International publication number)：1999241258
Application date： Feb. 25, 1998
Publication date： Sep. 07, 1999
Summary：
【要約】【課題】 基布に形成した透かし模様の外周内に、ミシンでは刺繍加工に使えない細い糸で、結果的に繊細な透かし模様の刺繍ができる方法を提供するにある。【解決手段】 ポリエステル系繊維とセルローズ系繊維、またはポリアミド系繊維とセルローズ系繊維との交編布、交織布等からなる基布に1、ポリエステル系繊維またはポリアミド系繊維からなる細い糸2bとセルローズ系繊維からなる太い糸2あを撚り合わせた刺糸2で刺繍模様を施し、次いで該刺繍模様の外周に所望の線柄1c、模様等を形成すべく、刺繍模様の表面から捺染糊を印捺し、更に乾燥後に熱処理と洗浄処理を行って基布1および刺糸2の印捺部分のセルロ-ズ系繊維を除去することにより、上記基布1に透かし模様1aを形成すると同時に、該透かし模様の輪郭内に繊細な透かし刺繍模様1bを形成するように構成した。
Claim (excerpt)：
ポリエステル系繊維とセルローズ系繊維、またはポリアミド系繊維とセルローズ系繊維との交編布、交織布等からなる基布に、ポリエステル系繊維またはポリアミド系繊維からなる細い糸とセルローズ系繊維からなる太い糸を撚り合わせた刺糸で刺繍模様を施し、次いで該刺繍模様の外周に所望の線柄、模様等を形成すべく、刺繍模様の表面から捺染糊を印捺し、更に乾燥後に熱処理と洗浄処理を行って基布および刺糸の印捺部分のセルロ-ズ系繊維を除去することにより、上記基布に透かし模様を形成すると同時に、該透かし模様の輪郭内に繊細な透かし刺繍模様を形成することを特徴とする透かし刺繍模様の形成方法。
IPC (4)：
D04C 1/06
, D02G 3/02
, D05C 17/00
, D06M 11/57
D04C 1/06 B
, D02G 3/02
, D05C 17/00
, D06M 1/24
, D06M 1/18
