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J-GLOBAL ID：200903045304497377
ポジ型レジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993223634
Publication number (International publication number)：1994202321
Application date： Sep. 08, 1993
Publication date： Jul. 22, 1994
Summary：
【要約】【目的】 解像度、プロファイル及び焦点深度等の諸性能に優れ、且つ現像残さのないポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 (a) メタクレゾール、パラクレゾール及び2,5-キシレノールを含むフェノール類の混合物とアルデヒド類とを縮合させて得られるノボラック樹脂、(b) 高速液体クロマトグラフィーにより測定したパターン面積で、フェノール性水酸基を少なくとも3個以上有する化合物のキノンジアジドスルホン酸ジエステルを40%以上含むキノンジアジド系感光剤、並びに(c) 分子量900 未満のアルカリ可溶性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(a) メタクレゾール、パラクレゾール及び2,5-キシレノールを含むフェノール類の混合物とアルデヒド類とを縮合させて得られるノボラック樹脂、(b) 高速液体クロマトグラフィーにより測定したパターン面積で、フェノール性水酸基を少なくとも3個以上有する化合物のキノンジアジドスルホン酸ジエステルを40%以上含むキノンジアジド系感光剤、並びに(c) 分子量900 未満のアルカリ可溶性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/023 511
, G03F 7/022
, H01L 21/027
Cited by examiner (10)
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