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J-GLOBAL ID：200903045308200409
フォトマスク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992179520
Publication number (International publication number)：1994027634
Application date： Jul. 07, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】位相シフトのあるフォトマスクの製造工程を簡略化し、耐久性の向上を図るとともに露光時の光強度の均一性も向上させる。【構成】透明の石英基板1に露光光の波長及び屈折率に応じた深さで彫下げ凸部を形成し、この上に遮光膜パターン9を形成することにより位相シフト膜を石英基板自体に形成する。これにより、位相シフト膜形成工程における有機膜あるいは無機膜の被着工程を省略し、製造工程を簡略化すると同時に耐久性にすぐれた位相シフト膜とする。更に、位相シフト膜と石英基板とは従来と異り、全く同一の物質となるので両者の屈折率の差をなくすことができる。その結果、両者の界面に光の反射が生じるのを防ぎ、露光時に光強度の均一性を向上する。
Claim (excerpt)：
所定波長の光に対して透明な基板の一表面に所定の開口を有する遮光膜を設けてなるフォトマスクにおいて、隣接する開口部のいずれか一方の基板領域に、露光光の波長をλ、前記基板の屈折率をnとして高さがλ/2(n-1)の凸部を有することを特徴とするフォトマスク。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
Cited by examiner (9)
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