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J-GLOBAL ID:200903045401959261

発光分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小林 良平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993340842
Publication number (International publication number):1995159324
Application date: Dec. 08, 1993
Publication date: Jun. 23, 1995
Summary:
【要約】【目的】 温度調節を行なわずに、輝線ピークと出口スリットとの位置ズレを補正できるようにする。【構成】 平行透明板30の角度を変化させつつ、いずれかの出口スリット17aを通過する光の強度を測定し、ピーク強度の位置を検出する。そのピーク位置で平行透明板30を固定し、以後、本測定を行なう。
Claim (excerpt):
入口スリットを通過した試料からの輝線を含む光を分散素子で分光し、単数又は複数の所定位置に置かれた出口スリットを通過する特定波長の光の強度を測定することにより試料の分析を行なう発光分析装置において、a)入口スリットと分散素子との間の入射光路に設けられた平行透明板と、b)平行透明板の角度を入射光軸に対して変化させる平行透明板回転手段と、c)平行透明板の角度を変化させつついずれかの出口スリットを通過する光の強度を測定し、ピーク強度の位置を検出して、そのピーク位置で平行透明板を固定する補正手段とを備えることを特徴とする発光分析装置。
IPC (2):
G01N 21/62 ,  G01J 3/443

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