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J-GLOBAL ID：200903045405405295

水素分離膜の水素ガス透過性能の回復及び安定化方法、並びにそれを用いた水素分離装置

Inventor： 酒井 修 ,  吉田 均 ,  川江 孝行
Applicant, Patent owner： 日本碍子株式会社
Agent (1)： 渡邉 一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995069272
Publication number (International publication number)：1996257376
Application date： Mar. 28, 1995
Publication date： Oct. 08, 1996
Summary：

【要約】【構成】 水素分離膜を酸素含有ガス中で加熱処理する水素分離膜の水素ガス透過性能の回復及び安定化方法、及び原料ガスの導入口、分離された水素ガスの導出口及び被処理ガスの導出口を有する容器の内部に水素分離膜を備えた水素分離装置であって、水素分離装置は、酸素含有ガスの導入口、酸素含有ガスの導出口、酸素含有ガスの容器への導入・導出を行うポンプ、及び水素分離装置を加熱する加熱手段を有する機構をさらに備え、水素分離工程の前に、酸素含有ガスの導入口を通じて、ポンプにより、酸素含有ガスを容器内に0.05l/min.・cm2以上で導入しつつ、加熱装置により、容器内を150〜500°Cに2分間以上保持し、その後、ポンプにより、酸素含有ガスを酸素含有ガスの導出口を通じて排出することにより、水素分離膜の水素ガス透過性能を回復及び安定化させる水素分離装置。【効果】 繰り返し使用により水素透過性能が低下した水素分離膜を回復させることができる。又、水素分離膜の水素透過性能を安定化させることができる。

Claim (excerpt)：

水素分離膜を酸素含有ガス中で加熱処理することを特徴とする水素分離膜の水素ガス透過性能の回復及び安定化方法。

IPC (4)：

B01D 65/00 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/50 ,  B01D 71/02 500

FI (4)：

B01D 65/00 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/50 ,  B01D 71/02 500

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-029728
  
• 特開平2-265631
  
• 特開平1-262924