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J-GLOBAL ID:200903045412927442

圧粉磁心及びこれを用いた高周波リアクトル

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000030667
Publication number (International publication number):2001223106
Application date: Feb. 08, 2000
Publication date: Aug. 17, 2001
Summary:
【要約】【課題】 周波数特性に優れ、しかも透磁率が高い高周波リアクトル用圧粉磁心及びそれを用いた容易かつ安価に製造でき、効率を向上させることができる高周波リアクトルを提供する。【解決手段】 組成が3.0〜6.0wt%Si、0.1〜1.0wt%O、残部Feで、かつ粒径が実質的に150μm以下の合金粉末とバインダーとから構成される圧粉磁心とする。これにより、交流透磁率μ20kHzが直流印加磁界1200A/mにおいて25以上で、かつ鉄損が20kHz、0.1Tの測定条件で1000kW/m3以下となる。
Claim (excerpt):
組成が3.0〜6.0wt%Si、0.1〜1.0wt%O、残部Feで、かつ粒径が実質的に150μm以下の合金粉末とバインダーとから構成される圧粉磁心であって、交流透磁率μ20kHzが直流印加磁界1200A/m時、25以上で、かつ鉄損が20kHz、0.1Tの条件下で1000kW/m3以下であることを特徴とする圧粉磁心。
IPC (6):
H01F 1/22 ,  H01F 3/08 ,  H01F 27/24 ,  H01F 27/255 ,  H01F 37/00 ,  H01F 41/02
FI (7):
H01F 1/22 ,  H01F 3/08 ,  H01F 37/00 M ,  H01F 37/00 A ,  H01F 41/02 D ,  H01F 27/24 K ,  H01F 27/24 D
F-Term (5):
5E041AA11 ,  5E041BB01 ,  5E041HB11 ,  5E041NN14 ,  5E041NN18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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