Pat

J-GLOBAL ID：200903045423971818

黴の発生が抑制された光学機器

Inventor： 田中 彰 ,  篠原 清晃
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993315454
Publication number (International publication number)：1995168001
Application date： Dec. 15, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 防黴効果が持続し、黴の発生が効率良く抑制された光学機器を提供することを目的とする。【構成】 光学機器内部に、黴を光分解することが可能な半導体光触媒を配置することにより、有機物である黴を酸化分解する。

Claim (excerpt)：

光学機器内部に、黴を光分解することが可能な半導体光触媒を配置したことを特徴とする、黴の発生が抑制された光学機器。

IPC (6)：

G02B 1/10 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/20 ,  B01J 35/02 ,  G02B 7/02 ,  G02B 27/00

FI (2)：

G02B 1/10 Z ,  G02B 27/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-251241
  
• 光触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-285421   Applicant：富士チタン工業株式会社
• 特開平2-251241