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J-GLOBAL ID：200903045426311118

膜分離装置、膜分離方法および膜分離装置の洗浄方法

Inventor： 今泉 幸文 ,  市川 浩行
Applicant, Patent owner： 東芝セラミックス株式会社
Agent (1)： 波多野 久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999099302
Publication number (International publication number)：2000288361
Application date： Apr. 06, 1999
Publication date： Oct. 17, 2000
Summary：

【要約】【課題】濾過処理量の増加および時間短縮を図ることで、濾過効率を向上させた膜分離装置および膜分離方法を得るとともに、濾過処理により経時的に濾過効率が低下したフィルタの洗浄を行う膜分離装置の洗浄方法を得る。【解決手段】原液aを供給する原液供給手段31と、この原液供給手段31の下方に設置された濾過処理手段32と、この濾過処理手段32に設けられた濾過液排出手段33と、濾過処理手段32の下方に設置された残液排出手段34とを有する膜分離装置30であって、濾過処理手段32は、原液aを濾過するフィルタ40と、このフィルタ40を収納するフィルタ容器41とからなる膜分離装置30において、フィルタ40に気体を供給してフィルタ40を洗浄する気体供給手段35を備えたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

被処理液である原液を供給する原液供給手段と、この原液供給手段の下方に設置され原液を重力濾過法により濾過処理する濾過処理手段と、この濾過処理手段に設けられ、濾過処理により得られた濾過液を排出する濾過液排出手段と、前記濾過処理手段の下方に設置され、濾過処理により生ずる残液を排出する残液排出手段とを有する膜分離装置であって、前記濾過処理手段は、原液を濾過するフィルタと、このフィルタを収納するフィルタ容器とからなる膜分離装置において、前記フィルタに気体を供給して前記フィルタを洗浄する気体供給手段を備えたことを特徴とする膜分離装置。

IPC (3)：

B01D 65/02 520 ,  B01D 63/06 ,  B01D 71/02

FI (3)：

B01D 65/02 520 ,  B01D 63/06 ,  B01D 71/02

F-Term (31)：

4D006GA02 ,  4D006HA22 ,  4D006KA13 ,  4D006KA17 ,  4D006KA62 ,  4D006KC02 ,  4D006KC03 ,  4D006KC05 ,  4D006KC13 ,  4D006KC14 ,  4D006KC16 ,  4D006KD17 ,  4D006KE03P ,  4D006KE06P ,  4D006KE11R ,  4D006KE12P ,  4D006KE16P ,  4D006KE22Q ,  4D006KE24Q ,  4D006KE28P ,  4D006KE28Q ,  4D006KE30P ,  4D006MA02 ,  4D006MA06 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MC03X ,  4D006PA01 ,  4D006PB20 ,  4D006PB52 ,  4D006PC12