Pat

J-GLOBAL ID：200903045459222463

純水の製造方法

Inventor： 吉田 実 ,  青木 正治 ,  浦上 逸男
Applicant, Patent owner： 直江津電子工業株式会社 ,  信越半導体株式会社 ,  千代田工販株式会社
Agent (1)： 山下 亮一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992204187
Publication number (International publication number)：1994047384
Application date： Jul. 31, 1992
Publication date： Feb. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 設備の大型化やランニングコストの高騰を招くことなく、溶存酸素やTOC等の不純物を効率良く除去して高純度の純水を製造することができる方法を提供すること。【構成】 純水にヒドラジン(還元剤)6を添加した後、UV照射装置4にて紫外線を照射して酸化還元反応を促進せしめることによって、純水中の溶存酸素を除去する工程を、純水の製造工程に組み込む。又、純水にヒドラジン(還元剤)6を添加した後、紫外線を照射することによって生成された、ヒドラジン6と純水中の溶存酸素及び有機物とのイオン性反応物質を混床型イオン交換塔5の陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂で除去する工程を、純水の製造工程に組み込む。

Claim (excerpt)：

純水に還元剤を添加した後、紫外線を照射して酸化還元反応を促進せしめることによって、純水中の溶存酸素を除去する工程を含むことを特徴とする純水の製造方法。

IPC (6)：

C02F 1/70 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/58 ,  C02F 9/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-278882
  
• 特開平2-265604
  
• 特開平3-278882
  
• 特開平2-265604