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J-GLOBAL ID：200903045472684310

被写界深度拡大システム

Inventor： 合▲崎▼ 紳一郎
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999080454
Publication number (International publication number)：2000275582
Application date： Mar. 24, 1999
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】被写界深度拡大システムを用いて試料を観察する時に、試料像を最適な条件で観察する。【解決手段】試料9からの光を集光する第1〜第3のレンズ2〜4及びこのレンズ群2〜4によって集光された光を検知し試料9の像を検出するCCD22とを有する被写体検出光学系と、試料9と撮像素子22との間に配置され、通過する光を被写界の拡大量に応じた所定形状の位相分布に変調させる液晶空間位相変調器5とを有し、この液晶空間位相変調器5の位相変調量は可変である。

Claim (excerpt)：

被写体からの光を集光するレンズ系及びこのレンズ系によって集光された光を検知し前記被写体の像を検出する撮像手段を有する被写体検出光学系と、前記被写体と前記撮像手段との間に配置され、前記被写体からの光の位相分布を変調可能な波面変換素子と、前記撮像手段から出力された像検出信号を空間フィルタを用いて画像変換する画像変換手段とを有し、前記波面変換素子により位相変調された前記被写体像を前記画像変換手段によって画像処理することにより被写界深度が拡大された画像を生成する被写界深度拡大システムであって、前記波面変換素子は、前記被写体からの光の位相変調量を任意に設定可能であり、前記画像変換手段の空間フィルタは、前記波面変換素子で設定された光の位相変調量に応じて変更可能であることを特徴とする被写界深度拡大システム。

IPC (8)：

G02B 27/46 ,  A61B 1/04 370 ,  G02F 1/13 505 ,  G06T 1/00 ,  G06T 5/20 ,  H04N 5/225 ,  H04N 5/335 ,  H04N 7/18

FI (9)：

G02B 27/46 ,  A61B 1/04 370 ,  G02F 1/13 505 ,  H04N 5/225 D ,  H04N 5/225 C ,  H04N 5/335 V ,  H04N 7/18 M ,  G06F 15/64 320 D ,  G06F 15/68 400 A

F-Term (55)：

2H088EA47 ,  2H088HA10 ,  2H088MA02 ,  2H088MA03 ,  4C061AA00 ,  4C061BB02 ,  4C061CC06 ,  4C061DD00 ,  4C061LL01 ,  4C061NN01 ,  4C061NN05 ,  4C061PP01 ,  4C061SS13 ,  4C061SS30 ,  5B047AA17 ,  5B047BB01 ,  5B047BC07 ,  5B047CA17 ,  5B047CB16 ,  5B047DA10 ,  5B057AA07 ,  5B057BA02 ,  5B057BA15 ,  5B057BA23 ,  5B057CE06 ,  5C022AA01 ,  5C022AB13 ,  5C022AB15 ,  5C022AB51 ,  5C022AC42 ,  5C022AC54 ,  5C022AC55 ,  5C022AC69 ,  5C022AC75 ,  5C024AA01 ,  5C024AA03 ,  5C024CA00 ,  5C024CA02 ,  5C024EA08 ,  5C024FA01 ,  5C024GA11 ,  5C024HA27 ,  5C054AA01 ,  5C054CA04 ,  5C054CC03 ,  5C054CD01 ,  5C054CE06 ,  5C054DA08 ,  5C054EA01 ,  5C054EJ00 ,  5C054FA01 ,  5C054FC00 ,  5C054FC03 ,  5C054HA01 ,  5C054HA12