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J-GLOBAL ID：200903045502111310

含硫黄ポリマー

Inventor： 永井 康彦 ,  深井 知裕 ,  中山 靖士
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994105521
Publication number (International publication number)：1995309947
Application date： May. 19, 1994
Publication date： Nov. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高屈折率を有し、耐熱性に優れ、光学レンズ、位相差板、反射防止膜、選択透過膜等の用途に好適に利用できる含硫黄ポリマーを提供する。【構成】 一般式(I)で表されるジチオール40〜55モル%、並びに、ジビニルベンゼン10〜90モル%及び芳香族ジアクリレート90〜10モル%からなるジビニル化合物60〜45モル%からなり、重量平均分子量が10000以上である含硫黄ポリマー。式中、R1 、R2 は同一又は異なって水素、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、フェニル基、水酸基、Cl又はBrを表す。nは1〜3の整数を表す。

Claim (excerpt)：

一般式(I)で表されるジチオール40〜55モル%、並びに、ジビニルベンゼン10〜90モル%及び芳香族ジアクリレート90〜10モル%からなるジビニル化合物60〜45モル%からなり、重量平均分子量が10000以上であることを特徴とする含硫黄ポリマー。【化1】式中、R1 、R2 は、同一又は異なって、水素、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、フェニル基、水酸基、Cl又はBrを表す。nは1〜3の整数を表す。