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J-GLOBAL ID：200903045509055024

マイクロ波プラズマベースアプリケータ

Inventor： ヘラルド ハーチェン ,  ウィリアム ブラウン
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996180751
Publication number (International publication number)：1997115894
Application date： Jul. 10, 1996
Publication date： May. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、プラズマの発生に使用される電磁放射線源と反応ガスを受け入れる、改良プラズマアプリケータを提供する。【解決手段】 アプリケータ管は、プラズマ内で反応種の生産を最大にする直径ー長さ比を持つことが好ましい。反応ガスはアプリケータ管の内表面付近で、アプリケータ管に注入される。プラズマの点火は、マイクロ波調整スタブの位置と、マイクロ波導波管内での背壁の正しい位置の選択により、より高められる。アプリケータ管はOリングによって、トルクが無い状態で弾性的に装着されている。アプリケータ管と外側管は同心でおかれ、その内部に、プラズマが発生する熱を冷却する冷却剤が導入される隙間を画成している。冷却剤は、無視できるマイクロ波吸収を示す過フッ化ポリエーテルが好ましく、それによりアプリケータ内に受け入れられたマイクロ波がより安定し、予測可能で、効果的になる。

Claim (excerpt)：

ガス源に結合され、更に電磁放射線が前記ガスと接触するように電磁放射線源に結合される、内部でプラズマを形成する為の管装置であって、前記管を前記ガス源に結合する穴を備えた包囲体を有し、前記管の内側表面と実質的に近接する前記管にガスが導入されるように前記穴は上記包囲体内に配置された、前記ガスが導入される第一端部と、前記ガスが追い出される第二端部と、を備える管装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46

FI (3)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-292828
  
• 特開昭64-071097
  
• 特開平2-183526