Pat

J-GLOBAL ID：200903045511589664

混合フォト酸レイビル基を有するポリマーおよび該ポリマーを含むフォトレジスト

Inventor： ティモシー・ジー・アダムズ ,  マシュー・エー・キング
Applicant, Patent owner： シップレーカンパニー エル エル シー
Agent (1)： 千田 稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002296340
Publication number (International publication number)：2003233190
Application date： Oct. 09, 2002
Publication date： Aug. 22, 2003
Summary：

【要約】【課題】 ポリマーを含むフォトレジストのリソグラフィー特性が改良される新規なポリマーの提供。【解決手段】 光活性成分および、i)フォト酸レイビルアセタール単位、およびii)単位i)とは異なるフォト酸レイビル単位を含むポリマー、を含むフォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

光活性成分および、i)フォト酸レイビルアセタール単位、およびii)単位i)とは異なるフォト酸レイビル単位を含むポリマー、を含むフォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  C08F216/38 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  C08F216/38 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (32)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AB02R ,  4J100AB07P ,  4J100AF15P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL05Q ,  4J100BA13P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BD11Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• レジスト材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-294695   Applicant：信越化学工業株式会社