Pat
J-GLOBAL ID:200903045517534110
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000203648
Publication number (International publication number):2001222113
Application date: Jul. 05, 2000
Publication date: Aug. 17, 2001
Summary:
【要約】【課題】 樹脂成分と酸発生剤を含有する化学増幅型のポジ型レジスト組成物において、感度や解像度などの各種レジスト性能の改良を図る。【解決手段】 環内に重合性炭素-炭素二重結合を有する脂環式炭化水素に下式(I)で示されるカルボン酸エステル基が結合した脂環式不飽和カルボン酸エステルから導かれる重合単位、例えば下式 (IIa)の重合単位、及び無水マレイン酸から導かれる重合単位 (III)を有し、それ自体はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物が提供される。式(I)及び(IIa) 中、R1 及びR2 はそれぞれ炭素数1〜4のアルキル、Rは脂環式炭化水素残基であるか、又はR、R2 及びそれらが結合する炭素原子で環を形成し、式(IIa) 中の点線で示される二価の基Dは、存在しないか、又は二価の飽和炭化水素残基である。
Claim (excerpt):
環内に重合性炭素-炭素二重結合を有する脂環式炭化水素に下式(I)(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキルを表し、Rは水酸基及びオキソから選ばれる基で置換されていてもよい脂環式炭化水素残基を表し、R2 は炭素数1〜4のアルキルを表すか、又はRとR2 が一緒になって、それらが結合する炭素原子とともに環を形成する)で示されるカルボン酸エステル基が結合した脂環式不飽和カルボン酸エステルから導かれる重合単位、及び無水マレイン酸から導かれる重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (9):
G03F 7/039 601
, C08F222/06
, C08F232/00
, C08K 5/00
, C08K 5/17
, C08L 45/00
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
, C08F 8/12
FI (9):
G03F 7/039 601
, C08F222/06
, C08F232/00
, C08K 5/00
, C08K 5/17
, C08L 45/00
, G03F 7/004 501
, C08F 8/12
, H01L 21/30 502 R
F-Term (56):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB06
, 2H025CB10
, 2H025CB43
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J002BH021
, 4J002BK001
, 4J002EB006
, 4J002EN017
, 4J002EN067
, 4J002EN077
, 4J002EN087
, 4J002EN097
, 4J002EU047
, 4J002EU077
, 4J002EU117
, 4J002EU137
, 4J002EU186
, 4J002EU237
, 4J002EV216
, 4J002EV246
, 4J002EV296
, 4J002FD206
, 4J002FD207
, 4J002GP03
, 4J100AK32Q
, 4J100AR11P
, 4J100AR21P
, 4J100BA03P
, 4J100BA11P
, 4J100BA15P
, 4J100BA16H
, 4J100BA16P
, 4J100BA20P
, 4J100BC04P
, 4J100BC08P
, 4J100BC09P
, 4J100CA04
, 4J100CA31
, 4J100HA08
, 4J100HC05
, 4J100HC63
, 4J100HC69
, 4J100HC71
, 4J100HC72
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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