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J-GLOBAL ID：200903045572107093

光集積回路の製造方法

Inventor： 近藤 厚男 ,  松井 久美子
Applicant, Patent owner： 日本碍子株式会社
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992305325
Publication number (International publication number)：1994160656
Application date： Nov. 16, 1992
Publication date： Jun. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 光学的に透明な基板に、正確に検出し得るアラインメントマークを形成し、各構成部材を高精度に位置決めできる光集積回路の製造方法を提供する。【構成】 透明基板(1) 上に第1の素子形成用のマスク(2) を形成し、このマスク上にアラインメントマーク(3a,3b) を形成する。次に、上記マスクを用いて第1の素子を形成した後、アラインメントマークが形成されている部分を除いて上記マスクを除去し、次に残存するアラインメントマークを用いて別の構成部材を形成する。

Claim (excerpt)：

電気光学結晶材料から成る光学的に透明な基板に光集積回路を形成するに際し、基板上に素子形成用のマスク材料層を形成し、このマスク材料層にアラインメントマークを形成し、形成したアラインメントマークを位置決め基準にして、第1の素子形成用のマスクを形成し、このマスクを用いて第1の光回路素子又はその回路素子構成部材を形成し、次に、前記マスクを、アラインメントマークが形成されている部分を除いてエッチングにより除去し、次に、基板上に残存するアラインメントマークを位置決め基準にして別の光集積回路素子又はその構成部材を形成することを特徴とする光集積回路の製造方法。

IPC (2)：

G02B 6/12 ,  H01L 27/15