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J-GLOBAL ID：200903045575815480
NTCサーミスタの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
玉蟲 久五郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993120833
Publication number (International publication number)：1994310303
Application date： Apr. 23, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 ゾル・ゲル法を用いることにより原子或いは分子オーダーで均質な組成のNTCサーミスタを比較的低温で作製する。【構成】 硝酸マンガン,硝酸コバルト,硝酸ニッケル或いは酢酸マンガン,酢酸コバルト,酢酸ニッケルのいずれかを原料とし、アルコール系溶媒に溶解させゾル溶液を作製し、これを乾燥させ、800°C以下の温度で焼成することを特徴としており、加水分解速度差の考慮等一切必要がなく、合成方法も非常に簡単なNTCサーミスタの製造方法を提供する。【効果】 本発明によるゾル・ゲル法を用いることによって800°C以下の比較的低温でNTCサーミスタを製造することを可能にする。
Claim (excerpt)：
無機或いは有機塩のマンガン,コバルト,ニツケル化合物を原料としエタノール,プロパノール,エチレングリコール,ジエチレングリコール,トリエチレングリコールを溶媒としてゾル溶液を作製し、500〜800°Cの温度で焼成することを特徴とするNTCサーミスタの製造方法。
Patent cited by the Patent：
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