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J-GLOBAL ID：200903045594088408

汚染物除去用組成物およびその製造法

Inventor： 藤木 俊一 ,  松永 藤尚 ,  加門 弘臣 ,  江原 博 ,  松田 善文 ,  桃井 一英 ,  松田 昌宏 ,  北野 尚男
Applicant, Patent owner： 本州化学工業株式会社 ,  本州興産株式会社 ,  株式会社孔官堂
Agent (1)： 尾関 弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992156098
Publication number (International publication number)：1993320694
Application date： May. 22, 1992
Publication date： Dec. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】広範な用途に適用出来、溶液型から固形型までの広い形態を有し、特に従来困難であったその中間型の形態を有する汚染物除去用組成物を開発すること。【構成】組成式がC10H16で表される非共役型二重結合を二個有するテルペン系炭化水素、水溶性ポリサッカライド、界面活性剤、水溶性アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩および水もしくは水-ポリオール混合物からなる組成物が汚染物除去用組成物として極めて好適なものであること。

Claim (excerpt)：

組成式がC10H16で表される非共役型二重結合を二個有するテルペン系炭化水素20〜60重量部、水溶性ポリサッカライド0.5〜5.0重量部、界面活性剤0.5〜30.0重量部、水溶性アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の金属分(酸化物として)0.01〜3.00重量部および水もしくは水-ポリオール混合物30〜70重量部よりなることを特徴とする汚染物除去用組成物。

IPC (3)：

C11D 7/50 ,  C09K 3/32 ,  C11D 7/24