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J-GLOBAL ID:200903045658253416
一つまたは複数の結晶化セラミック薄層の製造方法およびかゝる層を有する部品
Inventor:
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,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
江崎 光史 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000531412
Publication number (International publication number):2002503623
Application date: Feb. 15, 1999
Publication date: Feb. 05, 2002
Summary:
【要約】本発明は、少なくとも1つのセラミク層が適当な基体の上に形成されておりそして紫外線が照射される一つまたは複数の結晶化セラミック層、特に薄層を製造する方法に関する。この目的では、該層は連続的に紫外線照射される。この場合、紫外線エネルギーの強さは、光の侵入深さがセラミック層の層厚を超えない様に選択し、更に好ましくは光の侵入深さがセラミック層の層厚に相当する。紫外線の割合の多い光源、特にHg、XeまたはHg(Xe)ランプを光源として使用するのが好ましい。
Claim (excerpt):
少なくとも1つのセラミク層が適当な基体の上に形成されておりそして紫外線が照射される一つまたは複数の結晶化セラミック層、特に薄層を製造する方法において、該層が連続的に紫外線照射されることを特徴とする、上記方法。
IPC (3):
C04B 35/622
, C04B 35/64
, C04B 41/80
FI (3):
C04B 41/80 Z
, C04B 35/00 E
, C04B 35/64 D
F-Term (13):
4G030AA08
, 4G030AA09
, 4G030AA10
, 4G030AA16
, 4G030AA17
, 4G030AA20
, 4G030AA40
, 4G030AA43
, 4G030BA09
, 4G030BA10
, 4G030CA01
, 4G030CA08
, 4G030GA27
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