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J-GLOBAL ID：200903045659757590

光触媒活性を有する薄膜の製造方法

Inventor： 玉木 聡史 ,  大杉 高志 ,  南 努 ,  辰巳砂 昌弘
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997064561
Publication number (International publication number)：1998249211
Application date： Mar. 18, 1997
Publication date： Sep. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】 耐熱性が劣る材料からなる基材を用いた場合であっても、優れた光触媒活性を発現する、光触媒活性を有する薄膜の製造方法組成物を得る。【解決手段】 光硬化型ゾルゲル法により薄膜を製造するにあたり、チタンアルコキシドを含む原料からなる未硬化薄膜を基材上に形成した後、光を照射することにより、未硬化の薄膜を硬化させて光触媒活性に優れた二酸化チタンを含む薄膜を形成する、光触媒活性を有する薄膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

光硬化型ゾルゲル法による光触媒活性を有する薄膜の製造方法であって、チタンアルコキシドを含む未硬化の薄膜を形成する工程と、前記未硬化の薄膜に光を照射して光硬化型ゾルゲル法により、薄膜を硬化させると共に光触媒活性を有する二酸化チタンを生成させる工程とを備えることを特徴とする光触媒活性を有する薄膜の製造方法。

IPC (4)：

B01J 35/02 ,  B01J 21/06 ,  C01G 23/04 ,  C01G 23/053

FI (4)：

B01J 35/02 J ,  B01J 21/06 M ,  C01G 23/04 C ,  C01G 23/053

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-188938
  
• 光触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-146721   Applicant：株式会社ブリヂストン