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J-GLOBAL ID：200903045661931905

X線マスク用基板及びその製造方法、並びにX線マスク及びその製造方法

Inventor： 笑喜勉 ,  河原 孝光 ,  矢部 秀毅 ,  北村 佳恵子
Applicant, Patent owner： ホーヤ株式会社 ,  三菱電機株式会社
Agent (1)： 藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000042395
Publication number (International publication number)：2001230194
Application date： Feb. 21, 2000
Publication date： Aug. 24, 2001
Summary：

【要約】【課題】 マスク作製後極めて高い位置精度を有し、かつ、マスク使用時においても極めて高い位置精度を維持しうるX線マスク等を提供する。【解決手段】 X線マスク1におけるX線透過膜12が全体として所定の引っ張り応力を有し、かつ、前記X線透過膜12はその表層部の所定領域において、前記所定の引っ張り応力よりも低い膜応力を有するX線マスクにおいて、前記X線透過膜12はその全体において同じ結晶質からなり、かつ、前記X線透過膜12はその表層部の所定領域において、膜厚方向に応力変化がなく実質的に均一な応力を有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基板上又は支持枠上に、X線を透過するX線透過膜を少なくとも有するX線マスク用基板であって、前記X線透過膜は全体として所定の引っ張り応力を有し、かつ、前記X線透過膜はその表層部の所定領域において、前記所定の引っ張り応力よりも低い膜応力を有するX線マスク用基板において、前記X線透過膜はその全体において同じ膜質(同一の結晶質)からなり、かつ、前記X線透過膜はその表層部の所定領域において、膜厚方向に応力変化がなく実質的に均一な応力を有することを特徴とするX線マスク用基板。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2)：

G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 M

F-Term (12)：

2H095BA10 ,  2H095BB25 ,  2H095BB37 ,  2H095BC05 ,  2H095BC27 ,  2H095BC30 ,  5F046GD01 ,  5F046GD03 ,  5F046GD04 ,  5F046GD05 ,  5F046GD16 ,  5F046GD19