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J-GLOBAL ID：200903045662045801

日射遮蔽膜および波長選択型遮蔽膜

Inventor：
早川 至

About 早川 至


Applicant, Patent owner：
住友金属鉱山株式会社

About 住友金属鉱山株式会社


Agent (3)： 阿仁屋 節雄 ,  油井 透 ,  清野 仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007029545
Publication number (International publication number)：2008194563
Application date： Feb. 08, 2007
Publication date： Aug. 28, 2008
Summary：
【課題】ブルーヘイズが低減され、且つ、優れた膜強度を発揮する日射遮蔽膜を提供する。【解決手段】複合タングステン酸化物から選ばれた少なくとも1種を含む平均粒径200nm以下の微粒子からなる近赤外線遮蔽成分と、窒化チタン、酸窒化チタン、カーボンブラックから選ばれた少なくとも1種を含む平均粒径200nm以下の微粒子からなる顔料と、バインダー成分からなり、顔料の含有量は、前記日射遮蔽膜の波長780nm以下の領域における全光線反射のピーク強度をR1とし、前記顔料を含有しない前記日射遮蔽膜の780nm以下の領域における全光線反射のピーク強度をR0としたとき、0.15≧(R0-R1)/R0≧0.03を満たす量であり、バインダー成分の少なくとも1種が、グリシドキシプロピル基含有アルコキシシランとアミノプロピル基含有アルコキシシランとをモル比で2:1〜1:1の範囲で反応させてなる反応物である日射遮蔽膜。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
近赤外線遮蔽成分と、顔料と、バインダー成分と、を含有する日射遮蔽膜形成用塗布液を用いて塗膜形成される日射遮蔽膜であって、 前記近赤外線遮蔽成分が、複合タングステン酸化物から選ばれた少なくとも1種を含む平均粒径200nm以下の微粒子であり、 前記顔料が、窒化チタン、酸窒化チタン、カーボンブラックから選ばれた少なくとも1種を含む平均粒径200nm以下の微粒子であり、 前記顔料の含有量は、前記日射遮蔽膜の波長780nm以下の領域における全光線反射のピーク強度をR1とし、前記顔料を含有しない前記日射遮蔽膜の780nm以下の領域における全光線反射のピーク強度をR0としたとき、0.15≧(R0-R1)/R0≧0.03を満たす量であり、 前記バインダー成分の少なくとも1種が、グリシドキシプロピル基含有アルコキシシランとアミノプロピル基含有アルコキシシランとをモル比で2:1〜1:1の範囲で反応させてなる一般式(化1)で表される反応物である、 ことを特徴とする日射遮蔽膜。
IPC (7)：
B05D 5/06 ,  C09K 3/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D 5/32 ,  C09D 183/06 ,  C09D 183/08 ,  C03C 17/25
FI (10)：
B05D5/06 B ,  C09K3/00 105 ,  C09K3/00 104A ,  C09K3/00 104C ,  C09K3/00 104Z ,  C09D7/12 ,  C09D5/32 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  C03C17/25 A
F-Term (24)：
4D075CA25 ,  4D075DB13 ,  4D075DB31 ,  4D075EB43 ,  4D075EC02 ,  4D075EC11 ,  4D075EC47 ,  4G059AA01 ,  4G059AC07 ,  4G059EA05 ,  4G059EA18 ,  4G059EB07 ,  4J038DL051 ,  4J038DL052 ,  4J038DL081 ,  4J038DL082 ,  4J038HA026 ,  4J038HA166 ,  4J038HA316 ,  4J038KA08 ,  4J038KA12 ,  4J038NA19 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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