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J-GLOBAL ID：200903045662406278
エッチング装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993219863
Publication number (International publication number)：1995074141
Application date： Sep. 03, 1993
Publication date： Mar. 17, 1995
Summary：
【要約】【目的】 この発明はエッチング用反応性ガスによってエッチングを行う場合に、被エッチング物質を損傷させることがないようにしたエッチング装置を提供することにある。【構成】 被エッチング物質3が設置されるエッチングチャンバ1と、このエッチングチャンバに一端を接続して設けられたガス供給管6と、このガス供給管6の他端に接続され上記エッチングチャンバに上記ガス供給管を通してハロゲン含有のエッチング用反応性ガスを供給するガス供給源7と、上記ガス供給管に設けられ上記エッチング用反応性ガスの酸化反応を促進させそのガスに含まれるハロゲン原子を遊離させる酸化触媒8とを具備したことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
被エッチング物質が設置されるエッチングチャンバと、このエッチングチャンバに一端を接続して設けられたガス供給路と、このガス供給路の他端に接続され上記エッチングチャンバに上記ガス供給路を通してハロゲン含有のエッチング用反応性ガスを供給するガス供給源と、上記ガス供給路に設けられ上記エッチング用反応性ガスの酸化反応を促進させそのガスに含まれるハロゲン原子を遊離させる酸化触媒とを具備したことを特徴とするエッチング装置。
IPC (4)：
H01L 21/306
, B01J 35/02
, C23F 1/12
, C30B 33/08
