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J-GLOBAL ID：200903045685867825

現像装置

Inventor： 長谷部 圭蔵
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995011403
Publication number (International publication number)：1995263338
Application date： Dec. 29, 1986
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 少量の現像液で効率よく現像処理を行なうことができ、かつ、高速な現像液を用いて、大型の被処理基板の現像を行なう場合でも面内の現像状態が均一となるように現像処理を行なうことのできる現像装置を提供する。【構成】 処理室2内には、被処理基板3の周囲を囲む環状の堰を形成する環状部材5aが配置されている。この環状部材5aには載置台4の周囲を囲むように配置され、被処理基板3方向へ被処理基板3とほぼ平行する現像液流を形成する複数の現像液供給口5bが配置されている。環状部材5a上には、現像液供給口5bと間隔をもって対向する対向部5cを形成し、現像液流を下方へ向けるリング状部材5dが載置されている。

Claim (excerpt)：

表面に感光性膜が形成された被処理基板を、前記被処理基板の周囲を囲む容器内に配置し、前記容器内に現像液を供給して、前記被処理基板を前記現像液に接触させる現像装置であって、前記被処理基板の周囲を囲む如く形成された現像液供給口と、この現像液供給口と前記被処理基板との間に設けられ、前記現像液供給口から水平方向に向かう現像液流を下方へ向け、下部に設けられた間隙から前記被処理基板方向へ供給するリング状部材とを具備した現像液供給機構により、前記現像液を供給することを特徴とする現像装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭57-045232
  
• 特開昭56-066044