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J-GLOBAL ID：200903045694279855

電解セルおよびガス発生貯蔵装置

Inventor：
昆 昭彦

About 昆 昭彦


Applicant, Patent owner：
株式会社山武

About 株式会社山武


Agent (2)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005173436
Publication number (International publication number)：2006348328
Application date： Jun. 14, 2005
Publication date： Dec. 28, 2006
Summary：
【課題】PEM膜を確実に保護した状態で水素ガスや酸素ガスを生成する。【解決手段】タンク13に純水W1を貯留する。タンク14の純水W1中に電解セル101を設置する。電解セル101の第1の電極部(電極2-1側)にタンク13内の純水W1を通し、第2の電極部(電極2-2側)にタンク13内の純水W1を通す。すると、第1の電極部から酸素ガスが得られ、第2の電極部から水素ガスが得られる。この電解セル101の構造において、第1の電極部における純水W1の通路(多孔質給電体3-1:第1の通路)と第2の電極部における純水W2の通路(多孔質給電体3-2:第2の通路)とは、PEM膜1を挟んで向かい合う面の形状および位置を同一とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
固体高分子電解質膜と、この固体高分子電解質膜を挾んで設けられた第1の電極および第2の電極とを有し、前記第1の電極と前記第2の電極との間に直流電圧を印加した状態で前記第1の電極に接する第1の通路に通される液体から第1のガスと第2のガスを生成し、生成した第1のガスを前記第1の通路に通した液体とともに排出し、生成した第2のガスを前記第2の電極に接する第2の通路に通した液体とともに排出する電解セルであって、 前記第1の通路と前記第2の通路とは、前記固体高分子電解質膜を挟んで向かい合う面の形状および位置が同一とされている ことを特徴とする電解セル。
IPC (1)：
C25B 9/00
FI (1)：
C25B9/00 B
F-Term (11)：
4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021BC07 ,  4K021CA09 ,  4K021CA11 ,  4K021CA13 ,  4K021DA01 ,  4K021DA02 ,  4K021DA04 ,  4K021DB12 ,  4K021DB53
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 水素エネルギ供給装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-312371   Applicant：三菱商事株式会社
  • 高圧水素製造装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-178415   Applicant：三菱商事株式会社
  • 有隔膜電解槽
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-145088   Applicant：ホシザキ電機株式会社
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