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J-GLOBAL ID：200903045705961629

露光方法及び露光装置

Inventor： 白石 直正 ,  蛭川 茂
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991176306
Publication number (International publication number)：1993021312
Application date： Jul. 17, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 従来と同様の構成のレチクル、及び露光装置を使用して、特にホールパターンについて従来より高解像度で焦点深度の大きな露光方法、及び装置を提供する。【構成】 レチクル11にはホールパターン12a、及びホールパターン12aをほぼ包囲するような環状の補助パターン12bが設けられている。これらのパターン12を含むレチクル11を、レチクル11のパターン面のフーリエ変換面となる照明光学系の面、若しくはその近傍の面内に設けられた遮光板6で輪帯状に制限された照明光束で照明する。【効果】 投影光学系中にフィルター等を設けることなく、投影光学系の瞳面に輪帯状の光量分布を与えることができ、フィルター等の加熱による結像特性の劣化を防ぐことができる。

Claim (excerpt)：

マスクに形成された微細パターン群を感光基板に結像投影するための投影光学系と、光源からの照明光を前記マスクにほぼ一様に照射するための照明光学系とを備えた露光装置を用いて前記微細パターン群を露光する方法において、前記微細パターン群中の少なくとも1つの微細パターンは、円形状の第1のパターンと、該第1のパターンをほぼ囲み、且つ該第1のパターンとほぼ同心円となる環状の第2のパターンとで構成されるとともに、該第2のパターンの径方向の幅が前記投影光学系の解像限界程度、若しくはそれ以下に定められ、前記マスクのパターン面とほぼフーリエ変換の関係となる前記照明光学系内の面、若しくはその近傍の面を通過する前記光源からの照明光を、前記照明光学系の光軸をほぼ中心とする輪帯状の部分領域に制限することによって、前記マスクを照射する照明光を前記投影光学系のマスク側の開口数に応じた角度で傾けたことを特徴とする露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 P