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J-GLOBAL ID：200903045724489264

薄膜形成装置

Inventor： 加藤 光男 ,  金子 正治
Applicant, Patent owner： 株式会社 メイク ,  金子 正治
Agent (1)： 越川 隆夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999202668
Publication number (International publication number)：2001026885
Application date： Jul. 16, 1999
Publication date： Jan. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】密閉状態にて薄膜形成を行うとともに該密閉空間内の雰囲気温度を監視し制御することにより、いかなる場所においても安定して高精度の薄膜形成を行うことができる薄膜形成装置を提供する。【解決手段】ガラス基板10を加熱する加熱手段3と、薄膜の原料溶液を噴霧するノズル4と、ノズル4による噴霧を所定時間の間隔を置きながら繰り返し行うよう制御する噴霧制御手段14と、ガラス基板10を密閉収容可能な密閉手段5と、密閉手段5内の雰囲気温度を検出する温度検出手段6と、検出された雰囲気温度に基づき密閉手段5内の空気と外気との換気を行う負圧発生器17及びダクト7とを備えたものである。

Claim (excerpt)：

ガラス基板を加熱する加熱手段と、前記ガラス基板表面に対し薄膜の原料溶液を噴霧する噴霧手段と、前記ガラス基板の温度に基づいて、前記噴霧手段による噴霧を所定時間の間隔を置きながら繰り返し行うよう制御する噴霧制御手段と、を有して前記ガラス基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記ガラス基板を密閉収容可能な密閉手段と、該密閉手段内の雰囲気温度を検出する温度検出手段と、該温度検出手段により検出された雰囲気温度に基づき前記密閉手段内の空気と外気との換気を行う換気手段と、を備えたことを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (5)：

C23C 26/00 ,  B01J 19/00 ,  B05B 13/04 ,  C03C 17/25 ,  C23C 14/54

FI (5)：

C23C 26/00 Z ,  B01J 19/00 K ,  B05B 13/04 ,  C03C 17/25 B ,  C23C 14/54 B