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J-GLOBAL ID：200903045763444294

半導体装置

Inventor：
東口 昌浩

About 東口 昌浩


Applicant, Patent owner：
株式会社リコー

About 株式会社リコー


Agent (1)： 鳥居 洋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998197553
Publication number (International publication number)：2000031345
Application date： Jul. 13, 1998
Publication date： Jan. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 この発明は、封止樹脂の硬化時に半導体チップ表面にダメージを与えることなく、信頼性等を向上させた半導体装置を提供することを目的とする。【解決手段】 この発明は、半導体チップ10をフェイスダウンして半田バンプ11によりインターポーザー20と接続し、半導体チップ10表面とインターポーザー20との間隙にアンダーフィル30を充填した半導体装置において、アンダーフィルの中に含まれる充填材32の分布密度を、インターポーザー20側を密に、半導体チップ10側を疎にした。
Claim (excerpt)：
半導体チップをフェイスダウンしてバンプにより回路基板と接続し、前記半導体チップ表面と回路基板との間隙に封止樹脂を充填した半導体装置において、前記封止樹脂の中に含まれる充填材の分布密度を、回路基板側を密に、半導体チップ側を疎にしたことを特徴とする半導体装置。
IPC (5)：
H01L 23/29 ,  H01L 23/31 ,  H01L 21/56 ,  H01L 21/60 311 ,  H01L 23/28
FI (4)：
H01L 23/30 R ,  H01L 21/56 E ,  H01L 21/60 311 S ,  H01L 23/28 Z
F-Term (28)：
4M105AA02 ,  4M105AA16 ,  4M105BB01 ,  4M105DD04 ,  4M105FF02 ,  4M105GG17 ,  4M105GG19 ,  4M109AA01 ,  4M109BA03 ,  4M109CA04 ,  4M109DA04 ,  4M109DA07 ,  4M109DA10 ,  4M109DB16 ,  4M109DB17 ,  4M109DB20 ,  4M109EA02 ,  4M109EB12 ,  4M109EB16 ,  4M109FA04 ,  5F061AA01 ,  5F061BA03 ,  5F061CA04 ,  5F061CB02 ,  5F061CB04 ,  5F061DE02 ,  5F061DE03 ,  5F061DE04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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