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J-GLOBAL ID：200903045765134136

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及び永久パターン形成方法

Inventor： 杉山 武勝 ,  高柳 丘
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (3)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005018864
Publication number (International publication number)：2006208607
Application date： Jan. 26, 2005
Publication date： Aug. 10, 2006
Summary：

【課題】 UV露光により画像形成可能であり、ラミネート性及び取扱い性が良好で、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐薬品性、表面硬度、及び耐熱性などを有し、高精細な永久パターンの形成が可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤を少なくとも含有すると共に、該熱架橋剤が特定の構造の化合物を含み、かつ前記感光層を露光し現像する際の、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない該露光に用いる光の最小エネルギーが0.1〜200mJ/cm2であるパターン形成材料である。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤を少なくとも含有すると共に、該熱架橋剤が下記構造式(I)で表される化合物を含み、かつ前記感光層を露光し現像する際の、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない該露光に用いる光の最小エネルギーが0.1〜200mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料。

IPC (4)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/20

FI (4)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 501 ,  G03F7/20 501

F-Term (26)：

2H025AA02 ,  2H025AA06 ,  2H025AA10 ,  2H025AA13 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC53 ,  2H025BC54 ,  2H025BC85 ,  2H025BC86 ,  2H025CA01 ,  2H025CA07 ,  2H025CA09 ,  2H025CA14 ,  2H025CA35 ,  2H025CA48 ,  2H025CB60 ,  2H025CC17 ,  2H025FA03 ,  2H097FA02 ,  2H097LA09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭61-243869号公報
  
• 特開平02-097502号公報