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J-GLOBAL ID：200903045786065932

整髪剤

Inventor： 川副 智行 ,  大森 隆司
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003085464
Publication number (International publication number)：2004292343
Application date： Mar. 26, 2003
Publication date： Oct. 21, 2004
Summary：

【課題】本発明の目的は、毛髪に対し優れたセット保持力と良好な使用性、仕上がり感とを併せ持つ整髪剤を提供することにある。【解決手段】下記一般式(I)で示されるアルキレンオキシド誘導体を含有する整髪剤。【化1】R1-[(AO)m(EO)n]-R2 (I)(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、mおよびnはそれぞれ炭素数3〜4のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70である。炭素数3〜4のオキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合は、20〜80質量%である。R1およびR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基または水素原子であり、R1およびR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で示されるアルキレンオキシド誘導体と、皮膜形成性高分子及び/又は融点が40°C以上の固形油分とを含有する整髪剤。

IPC (1)：

A61K7/06

FI (1)：

A61K7/06

F-Term (25)：

4C083AA122 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC392 ,  4C083AC432 ,  4C083AC542 ,  4C083AD011 ,  4C083AD041 ,  4C083AD042 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD432 ,  4C083BB12 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083DD41 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 皮膚外用剤用基剤及びそれを配合してなる化粧品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-304030   Applicant：株式会社資生堂, 日本油脂株式会社
• 特許第3660656号