Pat

J-GLOBAL ID：200903045809375861

光線吸収膜

Inventor： 佐藤 幸夫 ,  国分 靖明
Applicant, Patent owner： 佐藤 幸夫 ,  国分 靖明
Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991302497
Publication number (International publication number)：1993113665
Application date： Oct. 22, 1991
Publication date： May. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】 樹脂板、ガラス板などの基板との密着性が良好で、耐候性、硬度を有した光線吸収膜とする。【構成】 紫外線、赤外線などの光線の吸収剤をジメチルアミノエチルメタアクリレートとヒドロキシエチルメタアクリレートとの重合耐に混合し、硬化剤を添加して樹脂板、ガラス板などの基板に垂れ流して光線吸収膜を構成する。

Claim (excerpt)：

ジメチルアミノエチルメタアクリレートとヒドロキシエチルメタアクリレートとの重合体に光線吸収剤を混合したことを特徴とする光線吸収膜。

IPC (7)：

G03F 7/032 ,  C09K 3/00 104 ,  C09K 3/00 105 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/11 501