薬液濃度管理方法及び薬液濃度管理装置を備えた化学的処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋光男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994070349
Publication number (International publication number)：1995278847
Application date： Apr. 08, 1994
Publication date： Oct. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】処理糟内の薬液の濃度を自動的に所定の薬液濃度範囲内に収めること。【構成】処理槽2の出口2Cに接続されたバルブ7に並列に薬液濃度測定センサー11が接続され、前記処理槽内の薬液濃度をリアルタイムで測定し、その得られた薬液濃度データを薬液濃度データ処理装置12で処理し、そこで得られた制御信号をコントローラ6に供給して、その制御信号に基づく開閉信号を得る。前記処理槽2の補充口2Bには、電磁バルブ8を介して薬液補充槽5が接続されており、前記開閉信号で前記電磁バルブ8が制御され、薬液補充槽5から薬液の補充が行われ、薬液の濃度が一定に保たれる。

Claim (excerpt)：

処理槽内の薬液濃度をリアルタイムに検知し、その薬液濃度が予め設定された管理限界以下になった時、薬液補充槽から薬液を自動的に補充し、そして予め設定された管理限界以上になった時、前記薬液補充を停止することを特徴とする化学的処理装置における薬液濃度管理方法。

IPC (3)：

C23F 1/08 101 , H01L 21/304 341 , H01L 21/306

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平3-039491
特開昭60-114579
特開昭59-126777

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