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J-GLOBAL ID：200903045820497340
露光用マスク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993122815
Publication number (International publication number)：1994161091
Application date： May. 25, 1993
Publication date： Jun. 07, 1994
Summary：
【要約】【目的】 同位相のパターンが隣接する部分や大面積パターンの部分においても位相シフト効果を与えることができ、より高解像度のパターン形成を可能とする露光用マスクを提供すること。【構成】 透光性基板301上にマスクパターンを配置して構成された露光用マスクにおいて、マスクパターンとして、非露光領域に相当する透光性基板301上の領域312に露光光に対する光路長が透光性基板301の透明部分311とは所定量だけ異なる半透明位相シフトパターン302を形成し、露光領域に相当する透光性基板301上の領域313に透明位相シフトパターン303を選択的に形成し、かつ半透明位相シフトパターン302と透明位相シフトパターン303の境界部を一部積層構造としたことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
透光性基板上にマスクパターンを形成した露光用マスクにおいて、前記マスクパターンとして、露光光に対する光路長が前記透光性基板の透明部分とは所定量だけ異なるように構成された半透明位相シフトパターンと、透明位相シフトパターンとを含むことを特徴とする露光用マスク。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
