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J-GLOBAL ID：200903045835454206
自由電子レーザー装置において、電子ビームからレーザー光への高い引出効率とフェムト秒領域極短パルスを実現する方法及び装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
社本 一夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001201764
Publication number (International publication number)：2003017788
Application date： Jul. 03, 2001
Publication date： Jan. 17, 2003
Summary：
【要約】【課題】 自由電子レーザー装置本体建設費、運転コスト、出力あたりの容積比、総効率等を大きく改善する自由電子レーザー装置の電子ビームから光への高い引出効率と極短パルス(フェムト秒領域)を実現する方法及び装置に関する。【解決手段】 自由電子レーザー装置の駆動源である電子ビームパルスを生成する超伝導又は常伝導リニアックからの電子ビームパルスのある下限値よりも尖頭電流値を大きくし、今まで発振が不可能であった、光と電子ビームの完全同期を取ることにより、又はその電子ビームパルスが繰り返される持続時間を光の発振が飽和する時間よりも長くすることにより光の発振を容易にし、且つ引出効率をその限界値まで増加させて限界値である電子ビーム出力の1/2Nw(NW=アンジュレーターの周期数)を越えさせ、又はミクロパルス中の電子数Nの「4/3乗に比例」を超えて「2乗に比例」に近付け若しくはそれに一致させることにより、自由電子レーザー装置において電子ビームから光への高い引出効率と極短パルス(フェムト秒領域)を実現する方法。
Claim (excerpt)：
自由電子レーザー装置において、電子ビームからレーザー光への高い引出効率とフェトム秒領域極短パルスを実現する方法において、自由電子レーザー装置の駆動源である電子ビームパルスを生成する超伝導又は常伝導リニアックからの電子ビームパルスの尖頭電流値をある下限値よりも大きくし、電子ビームと光を完全同期することにより、又はその電子ビームパルスが繰り返される持続時間を光の発振が飽和する時間(光出力が利得分増加して光が放出され、その増加などによりこれ以上光出力が増えない状態になる時間)よりも長くすることにより、光の発振を容易にし、且つ電子ビームからレーザー光への引出効率をその限界値まで増加させて限界値である電子ビーム出力の1/2Nw(Nw=アンジュレーターの周期数)を越えさせること、ミクロパルス中の電子数Nの「4/3乗に比例」を超えて「2乗に比例」に近付け若しくはそれに一致させること、更にフェトム秒領域極短パルスを発生させることを特徴とする方法。
F-Term (5)：
5F072AC10
, 5F072JJ02
, 5F072MM16
, 5F072PP02
, 5F072SS08
Cited by examiner (3)
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自由電子レーザ出力安定化装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-219968
Applicant：株式会社自由電子レーザ研究所
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特開昭56-019692
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自由電子レーザ発生装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-041315
Applicant：三菱電機株式会社
Article cited by the Patent：
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