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J-GLOBAL ID：200903045861827762
光学薄膜成膜方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992359409
Publication number (International publication number)：1994192820
Application date： Dec. 25, 1992
Publication date： Jul. 12, 1994
Summary：
【要約】【目的】 KDP,DKDPあるいはADPの結晶の表面に密着性のよい薄膜を作製する。【構成】 真空室1を減圧し、基板ホルダ4を回転させながらイオンビーム発生装置6からKDP,DKDP,ADPのいずれか一つの結晶からなる基板3の表面にイオンビームを照射し、基板3の表面を少くとも5nm以上エッチングすることで清浄化したのち、クラスターイオンビーム発生装置2からクラスターイオンビームを発生させて基板3の表面に薄膜を蒸着させる。これらの工程は基板3を加熱することなく行われる。
Claim (excerpt)：
りん酸2水素カリウム、りん酸2重水素カリウム、りん酸2水素アンモニウムのいずれか一つの結晶からなる基板の表面に薄膜を蒸着する光学薄膜成膜方法であって、基板の表面を少くとも厚さ5nm以上エッチングする工程と、エッチングされた基板の表面に薄膜を蒸着する工程からなり、前記工程のすべてが、減圧された真空室内で前記基板を加熱することなく行われることを特徴とする光学薄膜成膜方法。
IPC (4)：
C23C 14/22
, C23C 14/02
, C23C 14/32
, G02B 1/10
