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J-GLOBAL ID：200903045870192168

光ファイバジャイロ用光集積回路

Inventor： 渡辺 章夫
Applicant, Patent owner： 住友金属鉱山株式会社
Agent (1)： 篠原 泰司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992013323
Publication number (International publication number)：1993203454
Application date： Jan. 28, 1992
Publication date： Aug. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基板上に3dBカプラの機能を集積化したにも拘らず、3dBカプラによる6dBの損失が生じないような光ファイバジャイロ用光集積回路を提供する。【構成】 この光集積回路は、基板(1)上に、プロトン交換法により作製された独立した二つの導波路(13,18;15,16)と、二つの導波路に関連してプロトン交換法により作製されていて分岐比が3dBカプラになるように設定された方向性結合器(14)と、各導波路に配設された二つの位相変調器(19,21)とを備えている。

Claim (excerpt)：

ニオブ酸リチウム基板又はタンタル酸リチウム基板上に、入力ポートと出力ポートに夫々接続されていてプロトン交換法により作製された二つの独立した導波路と、該二つの導波路に関連してプロトン交換法により作製されていて分岐比が3dBになるように設定された方向性結合器と、該二つの導波路の各出射側に独立配置された二つの位相変調器とを配設して成る、光ファイバジャイロ用光集積回路。

IPC (2)：

G01C 19/72 ,  G02F 1/035

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特公昭59-014720
  
• 特公昭59-014720