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J-GLOBAL ID:200903045886301153

微小駆動素子の製造方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 柏木 明 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992267342
Publication number (International publication number):1994116752
Application date: Oct. 06, 1992
Publication date: Apr. 26, 1994
Summary:
【要約】【目的】 最終工程をドライプロセスとすることにより構造体の破壊を防ぎ歩留りを向上させ、大量生産を行うことが可能な微小駆動素子の製造方法及びその装置に関する。【構成】 基板1上に犠牲層となる第1層2を形成し、この第1層2の上部に構造体となる第2層3を形成し、この第2層3にエッチング用穴4を形成し、このエッチング用穴4からエッチャントにより第1層2を選択的にエッチングし、第2層3をドライエッチングすることによりその第2層3に可動部3aと固定部3bの形成された構造体を作製した。
Claim (excerpt):
選択的にエッチングした後基板上に犠牲層となる第1層を形成し、この第1層の上部に構造体となる第2層を形成し、この第2層に前記第1層を選択的にエッチングするためのエッチング用穴を形成し、このエッチング用穴からエッチャントにより前記第1層を選択的にエッチングし、前記第2層をドライエッチングすることによりその第2層に可動部と固定部の形成された前記構造体を作製するようにしたことを特徴とする微小駆動素子の製造方法。
IPC (2):
C23F 1/00 ,  C23F 4/00

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