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J-GLOBAL ID：200903045889097590

気相成長方法

Inventor： 山脇 秀樹
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997214821
Publication number (International publication number)：1999061411
Application date： Aug. 08, 1997
Publication date： Mar. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 溶液気化型気相成長において,気化室の目詰まりによるスループットの低下を抑制する。【解決手段】 1)溶液原料を気化した原料ガスを, 該原料ガスの気化温度を越えて予め加熱した有機溶媒を含む不活性なガスで堆積室に搬送する,2)前記有機溶媒はテトラヒドロフランまたは酢酸ブチルである,3)前記不活性なガスが窒素,またはアルゴン,またはヘリウムである。

Claim (excerpt)：

溶液原料を気化した原料ガスを, 該原料ガスの気化温度を越えて予め加熱した有機溶媒を含む不活性なガスで堆積室に搬送することを特徴とする気相成長方法。

IPC (3)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (3)：

C23C 16/44 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 B