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J-GLOBAL ID：200903045900347455
焦点検出方法および装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小林 将高
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992112401
Publication number (International publication number)：1993290781
Application date： Apr. 06, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】 試料表面に形成したパタンと集束ビームの軌跡との交差の確率を大にする。【構成】 パタン4aが形成された試料表面3上を集束ビーム1で走査する場合、その軌跡2aを1回の走査で少なくとも1回観察視野のほぼ中央を通過するリサージュ図形として、円形のパタン4aであっても軌跡2aと交差するようにして検出信号が確実に得られるようにしたことを特徴としている。
Claim (excerpt)：
XY平面からなる試料表面上に微小な段差を有するパターンが形成され、この試料表面を集束された荷電粒子線もしくは集束された光線で走査し、その軌跡が前記パタンと交わる箇所の二次電子信号をZ軸方向の焦点位置を変えては検出し、前記二次電子信号のコントラストまたは変化率の最大の位置から焦点を求める形状観察もしくは加工もしくは寸法測長装置における焦点検出方法において、焦点検出過程における前記集束された荷電粒子線もしくは集束された光線の描く軌跡を1回の走査で少なくとも1回観察視野のほぼ中央を通過するリサージュ図形とすることを特徴とする焦点検出方法。
IPC (4)：
H01J 37/21
, H01J 37/305
, H01J 37/317
, H01L 21/027
