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J-GLOBAL ID：200903045970785107

コンデンサの製造方法

Inventor： 小島 利邦 ,  吉田 浩一 ,  工藤 康夫 ,  村上 睦明
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994215960
Publication number (International publication number)：1996083735
Application date： Sep. 09, 1994
Publication date： Mar. 26, 1996
Summary：

【要約】【目的】 本発明は化学酸化重合で得られる導電性高分子層を弁作用金属に形成し、漏れ電流の小さなコンデンサを実現することを目的とする。【構成】 直方体または立方体または円筒形に成型した陽極弁金属の角部分を面取りまたは丸みを持たせ陽極酸化により誘電体皮膜を形成し、その上に化学酸化重合法により導電性高分子を形成してなるコンデンサである。このようにして作製したコンデンサは、表面全体に同時に均一に導電性高分子を積層する事ができ、漏れ電流が小さく、損失が良好なコンデンサを得ることができ、なおかつ化学酸化重合の処理回数が少なくてすむ。さらに、溶液中で重合することで細孔の奥まで充填する事ができ、蒸気中で重合することで表面に均一に積層する事ができ、漏れ電流が小さく、損失が良好なコンデンサを得ることができ、化学酸化重合の処理回数が少なくてすむ。

Claim (excerpt)：

少なくとも一つの角部を有する立体である陽極弁金属の角部を面取りし、次に前記陽極弁金属の表面に陽極酸化により誘電体皮膜を形成し、さらに複素五員環化合物溶液と酸化剤溶液を用いて化学酸化重合を行うことにより前記誘電体皮膜上に化学酸化重合導電性高分子層を積層することを特徴とするコンデンサの製造方法。