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J-GLOBAL ID：200903045988781141

高分子複合体及びその製造方法

Inventor： 奥田 英明 ,  西村 直人
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 佐野 静夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998360461
Publication number (International publication number)：2000176260
Application date： Dec. 18, 1998
Publication date： Jun. 27, 2000
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、多孔質基体の孔を塞ぐ高分子溶液を簡単な工程で取り除くことができる高分子複合体の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の高分子複合体の製造方法は、高分子ゲル膜によって表面が被覆された多孔質基体1から成るもので多数の透過孔4を有する高分子複合体を得るために、高分子溶液2を多孔質基体1上に塗布する工程と、該多孔質基体1に通風する工程と、該多孔質基体1上の前記高分子溶液2をゲル化する工程とから成ることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

高分子ゲル膜によって表面が被覆された多孔質基体から成るもので多数の透過孔を有する高分子複合体を得るために、高分子溶液を前記多孔質基体上に塗布する工程と、該多孔質基体に通風する工程と、該多孔質基体上の前記高分子溶液をゲル化する工程とから成ることを特徴とする高分子複合体の製造方法。

IPC (2)：

B01D 69/12 ,  B01D 39/16

FI (2)：

B01D 69/12 ,  B01D 39/16 C

F-Term (37)：

4D006GA02 ,  4D006HA03 ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB16 ,  4D006MC18 ,  4D006MC23 ,  4D006MC33 ,  4D006MC36 ,  4D006MC38 ,  4D006MC39 ,  4D006MC44 ,  4D006MC49 ,  4D006MC62 ,  4D006MC83 ,  4D006MC88 ,  4D006NA41 ,  4D006NA46 ,  4D006NA61 ,  4D006PA01 ,  4D006PB04 ,  4D006PB06 ,  4D006PB22 ,  4D006PB24 ,  4D006PC52 ,  4D019AA01 ,  4D019AA03 ,  4D019BA13 ,  4D019BB01 ,  4D019BB08 ,  4D019BB10 ,  4D019BD01 ,  4D019CA03 ,  4D019CB06