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J-GLOBAL ID：200903046005081616

透過性基体へのレーザーマーキング方法

Inventor： 高橋 勇 ,  矢口 洋一 ,  岩清水 直子
Applicant, Patent owner： 並木精密宝石株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993229535
Publication number (International publication number)：1995060464
Application date： Aug. 23, 1993
Publication date： Mar. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 時計用サファイヤカバーガラス等の透過性基体への極細線を主とした、複雑でより自由なデザインの加飾マーキングを可能にする。【構成】 サファイヤ、透光性セラミックス、クリスタルガラス等の透過性基体へのマーキングにおいて、基体マーキング面に金属薄膜を形成し、レーザー照射機を用いて金属薄膜面マーキング部分にレーザー光線を照射し、レーザー光線の集光した熱エネルギーによりマーキング部分の金属薄膜を溶解して基体表層部表面に微細な凹凸状の刻印処理を行い、その後金属薄膜を全て除去する。

Claim (excerpt)：

サファイヤ、透光性セラミックス、クリスタルガラス等の透過性基体へのマーキングにおいて、基体マーキング面に金属薄膜を形成し、レーザー照射機を用いて金属薄膜面マーキング部分にレーザー光線を照射し、レーザー光線の集光した熱エネルギーによりマーキング部分の金属薄膜を溶解して基体表層部表面に微細な凹凸状の刻印処理を行い、その後金属薄膜を全て除去することを特徴とする透過性基体へのレーザーマーキング方法。

IPC (3)：

B23K 26/00 ,  B01J 19/12 ,  B23K 26/18