排ガス中の窒素酸化物除去方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：八田幹雄 , 奈良泰男 , 宇谷勝幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005222916
Publication number (International publication number)：2006026635
Application date： Aug. 01, 2005
Publication date： Feb. 02, 2006
Summary：

【課題】工業用プラントや内燃機関等からの産業排ガス中の窒素酸化物の除去方法。【解決手段】 Pt、Pd、RhおよびRuよりなる群から選ばれた少なくとも1種の貴金属またはその化合物0.1〜30g/リットル-触媒およびLi、K、Na、Rb、Ce、Be、Mg、Ca、SrおよびBaよりなる群から選ばれた少なくとも1種の金属またはその化合物1〜80g/リットル-触媒からなる触媒活性成分と、耐火性無機酸化物とからなる触媒を、排ガスと酸化雰囲気下に接触させて該排ガス中の窒素酸化物を該触媒に吸着させ、次いで該排ガス中に還元物質を間欠的に導入して該触媒に吸着された窒素酸化物を還元して浄化することによる排ガス中の窒素酸化物の除去方法である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

白金、パラジウム、ロジウムおよびルテニウムよりなる群から選ばれた少なくとも1種の貴金属または該貴金属の化合物を触媒1リットル当り金属換算で0.1〜30gおよびリチウム、カリウム、ナトリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウムよりなる群から選ばれた少なくとも1種の金属または該金属の化合物を触媒1リットル当り金属換算で1〜80gからなる触媒活性成分と耐火性無機酸化物を触媒1リットル当り50〜400gとからなる触媒を、酸化雰囲気下の排ガスと接触させて該排ガス中の窒素酸化物を該触媒に吸着させ、次いで該排ガス中に還元物質を間欠的に導入して該触媒に吸着された窒素酸化物を還元して浄化することを特徴とする排ガス中の窒素酸化物の除去方法。

IPC (11)：

B01D 53/94 , B01J 23/42 , B01J 23/58 , B01J 23/89 , B01J 29/46 , F01N 3/10 , F01N 3/28 , B01J 23/656 , B01J 23/652 , B01J 23/648 , B01J 23/63

FI (13)：

B01D53/36 102B , B01J23/42 A , B01J23/58 A , B01J23/89 A , B01J29/46 A , F01N3/10 A , F01N3/28 301C , B01D53/36 102C , B01D53/36 104A , B01J23/64 104A , B01J23/64 103A , B01J23/64 102A , B01J23/56 301A

F-Term (118)：

3G091AB02 , 3G091AB03 , 3G091AB04 , 3G091AB06 , 3G091BA01 , 3G091BA14 , 3G091BA39 , 3G091GB01W , 3G091GB02W , 3G091GB03W , 3G091GB04W , 3G091GB05W , 3G091GB06W , 3G091GB07W , 3G091HA09 , 3G091HA10 , 4D048AA06 , 4D048AA13 , 4D048AA18 , 4D048AB01 , 4D048AB02 , 4D048AC02 , 4D048AC03 , 4D048AC10 , 4D048BA01X , 4D048BA02X , 4D048BA03X , 4D048BA08Y , 4D048BA10X , 4D048BA11X , 4D048BA14X , 4D048BA15X , 4D048BA18X , 4D048BA19X , 4D048BA23X , 4D048BA26X , 4D048BA27X , 4D048BA28X , 4D048BA30X , 4D048BA31X , 4D048BA32X , 4D048BA33X , 4D048BA35X , 4D048BA37X , 4D048BA38Y , 4D048BA41X , 4D048BB02 , 4D048CC32 , 4D048CC47 , 4G169AA03 , 4G169BA01B , 4G169BA05A , 4G169BA07B , 4G169BA13B , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BC02A , 4G169BC02B , 4G169BC03A , 4G169BC04A , 4G169BC04B , 4G169BC05A , 4G169BC05B , 4G169BC06A , 4G169BC06B , 4G169BC09A , 4G169BC09B , 4G169BC10A , 4G169BC10B , 4G169BC11A , 4G169BC11B , 4G169BC12A , 4G169BC12B , 4G169BC13A , 4G169BC13B , 4G169BC31A , 4G169BC31B , 4G169BC38A , 4G169BC39A , 4G169BC40A , 4G169BC41A , 4G169BC42A , 4G169BC42B , 4G169BC43B , 4G169BC44A , 4G169BC45A , 4G169BC54A , 4G169BC54B , 4G169BC59A , 4G169BC59B , 4G169BC60A , 4G169BC60B , 4G169BC62A , 4G169BC62B , 4G169BC66A , 4G169BC66B , 4G169BC67A , 4G169BC67B , 4G169BC68A , 4G169BC70A , 4G169BC70B , 4G169BC71A , 4G169BC71B , 4G169BC72A , 4G169BC72B , 4G169BC75A , 4G169BC75B , 4G169CA01 , 4G169CA03 , 4G169CA07 , 4G169CA08 , 4G169CA09 , 4G169EA18 , 4G169EB14Y , 4G169EC02Y , 4G169EC03Y , 4G169FC08 , 4G169ZA11B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

JP-A-60-125250
US-A-4297328
JP-A-63-100919

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Cited by examiner (7)

特開昭63-178848
特開平1-254251
排気ガス浄化システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-180861 Applicant：株式会社日本触媒

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