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J-GLOBAL ID：200903046043659834

フッ素イオン徐放性歯科用レジン組成物

Inventor： 安斎 碕 ,  夕田 貞之
Applicant, Patent owner： 三金工業株式会社
Agent (1)： 植木 久一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993246769
Publication number (International publication number)：1995101819
Application date： Oct. 01, 1993
Publication date： Apr. 18, 1995
Summary：

【要約】【目的】 フッ素イオンを長期間にわたり徐々に放出することが可能な歯科用レジン組成物を提供する。【構成】 下記化学式【化1】(R1 、R2 は、後記環式ホスファゼン化合物中において、少なくとも一つはFであり、残部は同一又は異なって重合性二重結合を有する基である)で表される構成単位を有する環式ホスファゼン化合物、該化合物を繰り返し単位とするポリマー及びコポリマーよりなる群から選択される少なくとも1種を含有する歯科用レジン組成物である。

Claim (excerpt)：

下記化学式【化1】(R1 、R2 は、後記環式ホスファゼン化合物中において、少なくとも一つはFであり、残部は同一又は異なって重合性二重結合を有する基である)で表される構成単位を有する環式ホスファゼン化合物、該化合物を繰り返し単位とするポリマー及びコポリマーよりなる群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする歯科用レジン組成物。

IPC (2)：

A61K 6/083 ,  A61K 6/00