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J-GLOBAL ID：200903046060476450
パターン描画方法および装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991161429
Publication number (International publication number)：1993013311
Application date： Jul. 02, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：
【要約】【目的】 描画パターンの変更要求などに対して、計算処理時間やデータ量の増大などを招くことなく、迅速に対応することが可能なパターン描画技術を提供する。【構成】 電子ビーム2よってウェハ5にパターン描画を行うパターン描画装置に、パターンデータを保持する複数の面のパターンデータメモリ10aおよび10bと、第1メモリ15,リサイズ処理回路16,パターン整形処理回路17,輪郭処理回路18,スケーリング処理回路19,白黒反転処理回路20,ミラー反転処理回路21および第2メモリ22と、制御コンピュータ8の配下で、これらの動作を制御するパターン処理プロセッサ23とを備えた処理手段Aと、パターンデータに対する変更要求の有無に応じて、パターンデータの処理手段に対する転送を制御する判定部24とを設けた。
Claim (excerpt)：
ショットサイズが可変の粒子線を用い、この粒子線をパターンデータに基づいて制御することにより、基板上に所望のパターンを描画するパターン描画装置において、前記パターンデータに対する変更要求が発生した時、前記パターン描画装置の内部において、前記パターンデータに対してサイジング処理,およびスケーリング処理,白黒反転処理,ミラー反転処理のうちの少なくとも一つ以上の処理を施した後、前記基板に対する描画を行うことを特徴とするパターン描画方法。
FI (3)：
H01L 21/30 341 J
, H01L 21/30 321
, H01L 21/30 331 A
