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J-GLOBAL ID：200903046065865225

微小開口プローブ及び微小開口プローブの製造方法

Inventor： 杉村 博之 ,  山本 琢磨 ,  中桐 伸行
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995061032
Publication number (International publication number)：1996262038
Application date： Mar. 20, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】 微小開口の形状を精度良く形成する。【構成】 透明な透明基体1と、透明基体1上に形成された金属若しくは半導体からなる光遮蔽層2と、光遮蔽層2の一部を酸化することによって設けられた光透過領域3と、を有する。

Claim (excerpt)：

透明な透明基体と、前記透明基体上に形成された金属若しくは半導体からなる光遮蔽層と、前記光遮蔽層の一部を酸化することによって設けられた光透過領域と、を有することを特徴とする微小開口プローブ。

IPC (2)：

G01N 37/00 ,  G01B 9/04

FI (2)：

G01N 37/00 E ,  G01B 9/04