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J-GLOBAL ID:200903046116259970
オストワルド係数の低いフッ素化エーテルで安定化させたガスエマルジョン
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
遠山 勉 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1997501477
Publication number (International publication number):1999506782
Application date: Jun. 05, 1996
Publication date: Jun. 15, 1999
Summary:
【要約】超音波および磁気共鳴イメージングのコントラストを増強するための長時間持続型ガスエマルジョンはオストワルド係数の低いフルオロモノエーテルおよびフルオロポリエーテル化合物を利用している。微小気泡調製物を含むガスエマルジョンが開示されており、前記ガスエマルジョン中、微小気泡はペルフルオロジグリム(CF3(OCF2CF2)2OCF3)、ペルフルオロモノグリム(CF3OCF2CF2OCF3)、ペルフルオロジエチルエーテルC2F5OC2F5、ペルフロオロエチルメチルエーテルCF3OC2F5、ペルフルオロジメチルエーテルCF3OCF3並びにCF3OCF2OCF3およびフルオロポリエーテル、CF3(OCF2)2OCF3、CF3(OCF2)3OCF3およびCF3(OCF2)4OCF3などのフルオロエーテルを含む。
Claim (excerpt):
液体媒質中の多数の気泡を含み、前記気泡が37°Cでオストワルド係数が500×10-6未満の化合物を含む超音波コントラスト増強用ガスエマルジョン。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特表平5-506839
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特開平1-107751
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特表平5-506839
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特開平1-107751
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特表平7-501319
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