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J-GLOBAL ID：200903046202722330

浄水精製方法および浄水精製装置

Inventor： 浜野 利勝
Applicant, Patent owner： 三島光産株式会社
Agent (1)： 有我 軍一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997341115
Publication number (International publication number)：1999169862
Application date： Dec. 11, 1997
Publication date： Jun. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 塩素添加による浄水精製の欠点と、ろ過による浄水精製の欠点とを補い得る新規な浄水精製方法を実現し、滅菌および除菌効果に優れ、かつおいしい浄水をつくることのできる浄水精製装置を提供する。【解決手段】 原水に塩素系滅菌剤L1を添加し所定塩素濃度の水L2を調整してその水中で比較的微細な細菌を滅菌せしめるとともに、この所定塩素濃度の水L2中では死滅しないおそれのある比較的大きな細菌をろ過材40によりろ過して除菌せしめる。

Claim (excerpt)：

原水に塩素系滅菌剤を添加し所定塩素濃度の水を調整して原水中の比較的微細な細菌を滅菌せしめるとともに、該所定塩素濃度の水中では死滅しないおそれのある比較的大きな細菌をろ過材によりろ過して除菌せしめることを特徴とする浄水精製方法。

IPC (12)：

C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  B01D 61/16 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/76 ,  B01D 63/02 ,  B01D 71/68

FI (13)：

C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 A ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 B ,  C02F 1/50 560 E ,  C02F 1/50 560 Z ,  B01D 61/16 ,  C02F 1/44 H ,  C02F 1/76 A ,  B01D 63/02 ,  B01D 71/68