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J-GLOBAL ID：200903046204093895

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 山中 司 ,  藤森 亨
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998104998
Publication number (International publication number)：1999295895
Application date： Apr. 15, 1998
Publication date： Oct. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ポジ型フォトレジスト組成物において、遠紫外光、とくにエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することで、短波長光源の使用に対して高感度、高解像力、パタ-ンプロファイルが優れたレジスト組成物の開発である。その中でも、とりわけ解像力(限界解像力)の向上である。【解決手段】特定の構造の酸で分解する基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する化合物、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物、及び活性光線または放射線の照射により分解して塩基を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)下記一般式(I)で示される酸で分解する基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する化合物、(b)活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物、及び(c)活性光線または放射線の照射により分解して塩基を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1 は水素原子又はメチル基を表す。R2 はメチル基又はエチル基を表し、R3 は炭素数1〜4個のアルキル基を表す。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 B ,  H01L 21/30 502 R