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J-GLOBAL ID：200903046241818506

表面形状測定装置及び方法

Inventor： 西山 陽二 ,  塚原 博之
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 國分 孝悦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003119920
Publication number (International publication number)：2004325232
Application date： Apr. 24, 2003
Publication date： Nov. 18, 2004
Summary：

【課題】装置周囲の状況によって突発的に生じた外乱にも対応可能な表面形状の測定技術を提供することを課題とする。【解決手段】対象物表面の反射光及び参照面の反射光の干渉画像を撮像するための撮像手段と、対象物表面の反射光及び参照面の反射光の光路差を変更するための位相シフト手段と、光路差を変更して撮像した複数枚の干渉画像のうちの各干渉画像が対象物表面形状測定に悪影響を与える可能性があるか否かを検定する検定手段と、光路差を変更して撮像した複数枚の干渉画像のうち、悪影響を与える可能性があると検定された干渉画像を除いた干渉画像を基に、各点における干渉の位相を抽出し、対応する対象物表面の各点と参照面の各点の光路差を求めることにより対象物表面の形状を演算する形状演算手段とを有する表面形状測定装置が提供される。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

対象物表面の反射光及び参照面の反射光の干渉画像を撮像するための撮像手段と、 前記対象物表面の反射光及び前記参照面の反射光の光路差を変更するための位相シフト手段と、 光路差を変更して撮像した複数枚の干渉画像のうちの各干渉画像が対象物表面形状測定に悪影響を与える可能性があるか否かを検定する検定手段と、 前記光路差を変更して撮像した複数枚の干渉画像のうち、前記悪影響を与える可能性があると検定された干渉画像を除いた干渉画像を基に、各点における干渉の位相を抽出し、対応する対象物表面の各点と参照面の各点の光路差を求めることにより対象物表面の形状を演算する形状演算手段と を有する表面形状測定装置。

IPC (2)：

G01B11/24 ,  G01B9/02

FI (2)：

G01B11/24 D ,  G01B9/02

F-Term (22)：

2F064AA09 ,  2F064CC01 ,  2F064EE01 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG70 ,  2F064HH03 ,  2F064JJ01 ,  2F064KK01 ,  2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065FF51 ,  2F065LL57 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ41 ,  2F065RR05 ,  2F065RR06